Fonte de alimentação de alta tensão para plasma AHV 30kV 67mA para processamento industrial

  • Fonte de alimentação de alta tensão para plasma da série AHV 30kV 67mA 2000W
  • Ecrã LED de 4 dígitos para tensão, corrente e frequência
  • Saída nominal 0 a 30kV (60kVpp) 67mA 2000W
  • Frequência fixa 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz
  • Frequência ajustável 5kHz a 100kHz
  • Outras gamas de tensão, frequência e potência a pedido

Detalhes

O processamento de plasma industrial de 30kV utiliza energia de alta tensão e alta frequência (normalmente 10-30 kHz) para tratamento avançado de materiais, incluindo modificação, limpeza e revestimento de superfícies. Estes sistemas de plasma, incluindo geradores pulsados e configurações de descarga por barreira dieléctrica (DBD), são utilizados em ambientes atmosféricos e de vácuo para a funcionalização de polímeros, produção de ozono e fabrico avançado.

A fonte de alimentação de plasma de alta tensão da série AHV 30kV 67mA 2000W é ideal para o processamento industrial, fornecendo impulsos de alta potência e alta tensão de 30kV (60kV pico a pico) a uma frequência fixa ou a uma gama de frequência ajustável selecionável de 1kHz a 100kHz.

Opções de gama de frequência fixa: 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opções de gama de frequência ajustável: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz

 Principais aplicações do plasma industrial de 30kV (60kVpp):

  • Tecnologia de plasma frio: utilizado para a esterilização, a descontaminação e a ativação de superfícies.
  • Modificação de superfícies industriais: Os impulsos de alta tensão de plasma de 30kV são utilizados para aumentar a energia da superfície dos materiais, melhorando a aderência para impressão, pintura e colagem.
  • Revestimento por plasma: Os sistemas de plasma de vácuo de 30kV são utilizados para a deposição de alta precisão de películas finas e revestimentos funcionais através de descarga por barreira dieléctrica (DBD).
  • Controlo ambiental: Impulsos de 30kV accionam sistemas de descarga por barreira dieléctrica para decompor compostos orgânicos voláteis (COV) e tratar gases de escape industriais.
  • Síntese de materiais: Os sistemas de alta tensão pulsada de 30kV são frequentemente utilizados na síntese de nanopartículas e no processamento de materiais.

Fonte de alimentação de alta tensão para plasma AHV 30kV 67mA para processamento industrial

Modelo (30 kV) Gama de saída Modelo (30 kV) Gama de saída
Tensão de pico Corrente máxima Potência Frequência Tensão de pico Corrente máxima Potência Frequência
AHV30-67-FF5K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 5kHz AHV30-67-AF5-10K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável 5kHz a 10kHz
AHV30-67-FF8K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 8kHz AHV30-67-AF10-20K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 10kHz a 20kHz
AHV30-67-FF10K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 10kHz AHV30-67-AF10-30K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 10kHz a 30kHz
AHV30-67-FF20K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 20kHz AHV30-67-AF20-30K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 20kHz a 30kHz
AHV30-67-FF30K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 30kHz AHV30-67-AF20-40K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 20kHz a 40kHz
AHV30-67-FF40K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 40kHz AHV30-67-AF20-50K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 20kHz a 50kHz
AHV30-67-FF50K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 50kHz AHV30-67-AF30-40K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável 30kHz a 40kHz
AHV30-67-FF100K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 100kHz AHV30-67-AF30-50K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável 30kHz a 50kHz
AHV30-67-AF50-100K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 50kHz a 100kHz
Dimensões Módulo de controlo: 439 W × 133 A × 436 P mm
Módulo de saída de alta tensão: 439 W × 133 H × 436 D mm
Peso Módulo de controlo: cerca de 12 kg
Modelo de saída HV: cerca de 24 kg
Entrada AC 1φ3W, 220V±10% 50/60Hz

Para efeitos de melhoria do produto, as especificações estão sujeitas a alterações sem aviso prévio.

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