Fonte de alimentação de alta tensão para plasma AHV 30kV 67mA para processamento industrial

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Fonte de alimentação de alta tensão para plasma AHV 30kV 67mA para processamento industrial

  • Fonte de alimentação de alta tensão para plasma da série AHV 30kV 67mA 2000W
  • Ecrã LED de 4 dígitos para tensão, corrente e frequência
  • Saída nominal 0 a 30kV (60kVpp) 67mA 2000W
  • Frequência fixa 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz
  • Frequência ajustável 5kHz a 100kHz
  • Outras gamas de tensão, frequência e potência a pedido
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Detalhes

O processamento de plasma industrial de 30kV utiliza energia de alta tensão e alta frequência (normalmente 10-30 kHz) para tratamento avançado de materiais, incluindo modificação, limpeza e revestimento de superfícies. Estes sistemas de plasma, incluindo geradores pulsados e configurações de descarga por barreira dieléctrica (DBD), são utilizados em ambientes atmosféricos e de vácuo para a funcionalização de polímeros, produção de ozono e fabrico avançado.

A fonte de alimentação de plasma de alta tensão da série AHV 30kV 67mA 2000W é ideal para o processamento industrial, fornecendo impulsos de alta potência e alta tensão de 30kV (60kV pico a pico) a uma frequência fixa ou a uma gama de frequência ajustável selecionável de 1kHz a 100kHz.

Opções de gama de frequência fixa: 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opções de gama de frequência ajustável: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz 

Principais aplicações do plasma industrial de 30kV (60kVpp):

  • Tecnologia de plasma frio: utilizado para a esterilização, a descontaminação e a ativação de superfícies.
  • Modificação de superfícies industriais: Os impulsos de alta tensão de plasma de 30kV são utilizados para aumentar a energia da superfície dos materiais, melhorando a aderência para impressão, pintura e colagem.
  • Revestimento por plasma: Os sistemas de plasma de vácuo de 30kV são utilizados para a deposição de alta precisão de películas finas e revestimentos funcionais através de descarga por barreira dieléctrica (DBD).
  • Controlo ambiental: Impulsos de 30kV accionam sistemas de descarga por barreira dieléctrica para decompor compostos orgânicos voláteis (COV) e tratar gases de escape industriais.
  • Síntese de materiais: Os sistemas de alta tensão pulsada de 30kV são frequentemente utilizados na síntese de nanopartículas e no processamento de materiais.

Fonte de alimentação CA de alta tensão para plasma AHV 30kV 67mA para processamento industrial

Modelo (30kV) Saída Gama
Tensão de pico Corrente máxima Potência Frequência
AHV30-67-FF5K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 5kHz
AHV30-67-FF8K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 8kHz
AHV30-67-FF10K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 10kHz
AHV30-67-FF20K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 20kHz
AHV30-67-FF30K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 30kHz
AHV30-67-FF40K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 40kHz
AHV30-67-FF50K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 50kHz
AHV30-67-FF100K 0~30kV 0~67mA 2000W Fixo 100kHz
AHV30-67-AF5-10K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável 5kHz a 10kHz
AHV30-67-AF10-20K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 10kHz a 20kHz
AHV30-67-AF10-30K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 10kHz a 30kHz
AHV30-67-AF20-30K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 20kHz a 30kHz
AHV30-67-AF20-40K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 20kHz a 40kHz
AHV30-67-AF20-50K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 20kHz a 50kHz
AHV30-67-AF30-40K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável 30kHz a 40kHz
AHV30-67-AF30-50K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável 30kHz a 50kHz
AHV30-67-AF50-100K 0~30kV 0~67mA 2000W Ajustável de 50kHz a 100kHz
Dimensões Módulo de controlo: 439W*133H*436D mm; Módulo de saída HV: 439W*133H*436D mm
Peso Módulo de controlo: cerca de 12 kg; modelo de saída HV: cerca de 24 kg
Entrada AC 1φ3W, 220V±10% 50/60Hz

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