Fonte de alimentação de alta tensão para plasma AHV 30kV 67mA para processamento industrial

O processamento de plasma industrial de 30kV utiliza energia de alta tensão e alta frequência (normalmente 10-30 kHz) para tratamento avançado de materiais, incluindo modificação, limpeza e revestimento de superfícies. Estes sistemas de plasma, incluindo geradores pulsados e configurações de descarga por barreira dieléctrica (DBD), são utilizados em ambientes atmosféricos e de vácuo para a funcionalização de polímeros, produção de ozono e fabrico avançado.

A fonte de alimentação de plasma de alta tensão da série AHV 30kV 67mA 2000W é ideal para o processamento industrial, fornecendo impulsos de alta potência e alta tensão de 30kV (60kV pico a pico) a uma frequência fixa ou a uma gama de frequência ajustável selecionável de 1kHz a 100kHz.

Opções de gama de frequência fixa: 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opções de gama de frequência ajustável: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz

 Principais aplicações do plasma industrial de 30kV (60kVpp):

• Tecnologia de plasma frio: utilizado para a esterilização, a descontaminação e a ativação de superfícies.
• Modificação de superfícies industriais: Os impulsos de alta tensão de plasma de 30kV são utilizados para aumentar a energia da superfície dos materiais, melhorando a aderência para impressão, pintura e colagem.
• Revestimento por plasma: Os sistemas de plasma de vácuo de 30kV são utilizados para a deposição de alta precisão de películas finas e revestimentos funcionais através de descarga por barreira dieléctrica (DBD).
• Controlo ambiental: Impulsos de 30kV accionam sistemas de descarga por barreira dieléctrica para decompor compostos orgânicos voláteis (COV) e tratar gases de escape industriais.
• Síntese de materiais: Os sistemas de alta tensão pulsada de 30kV são frequentemente utilizados na síntese de nanopartículas e no processamento de materiais.