AHV 30kV 30mA Fuente de alimentación de impulsos de alta frecuencia y alto voltaje para plasma

  • AHV 30kV 30mA Fuente de alimentación de impulsos de alta frecuencia y alto voltaje serie 900W
  • Pantalla LED de 4 dígitos para tensión, corriente y frecuencia
  • Salida nominal 0 a 30kV (60kVpp) 30mA 900W
  • Frecuencia fija 5kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz
  • Frecuencia ajustable de 5 kHz a 100 kHz
  • Otras tensiones, frecuencias y potencias a petición

Detalles

Las fuentes de alimentación de impulsos de alta tensión y alta frecuencia para aplicaciones de plasma son dispositivos especiales diseñados para suministrar impulsos de subida rápida, precisos y ajustables para impulsar la descarga dieléctrica de barrera (DBD), la descarga corona y el tratamiento de superficies. Estos dispositivos suelen proporcionar un rango de tensión de 10kV a 30kV o más y un rango de frecuencia (tasa de repetición) de 1kHz a 20kHz o más.

AHV 30kV 30mA 900W serie 30kV (60kV pico a pico) de alta tensión de alta frecuencia de alimentación de impulsos fuentes de impulsos de alta tensión, ya sea a una frecuencia fija o un rango de frecuencia ajustable seleccionable de 1kHz a 100kHz.

Opciones de gama de frecuencias fijas: 5kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opciones de rango de frecuencia ajustable: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz 

La tecnología del plasma se aplica ampliamente en la industria y la investigación por sus propiedades únicas como gas ionizado.

  • Industria de semiconductores: La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) y el grabado son esenciales para la fabricación de chips informáticos, ya que permiten modificar con precisión el material a nivel microscópico.
  • Tratamiento y revestimiento de superficiesUtilizados en el grabado y la deposición por plasma durante la fabricación de semiconductores, chorros de plasma para el corte y la unión de metales, tratamiento de superficies como el recubrimiento por plasma, la nitruración por plasma y la polimerización por plasma.
  • Aplicaciones médicasesterilización de instrumental médico y eliminación de riesgos biológicos
  • Corte e iluminación industrial: Las antorchas de plasma se utilizan para cortar metales con gran precisión. El plasma también es la fuente de luz de las lámparas fluorescentes, los letreros de neón y los televisores de plasma.
  • Medio ambiente y gestión de residuos: Las antorchas de plasma de alta temperatura se utilizan para gasificar residuos peligrosos, descomponiendo los materiales tóxicos a nivel atómico. También se utiliza para tratar el aire y el agua contaminados.

AHV 30kV 30mA Fuente de alimentación de impulsos de alta frecuencia y alto voltaje para plasma

Modelo (30kV) Salida Gama
Pico de tensión Corriente máxima Potencia Frecuencia
AHV30-30-FF5K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 5kHz
AHV30-30-FF10K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 10 kHz
AHV30-30-FF20K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 20 kHz
AHV30-30-FF30K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 30 kHz
AHV30-30-FF40K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 40 kHz
AHV30-30-FF50K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 50 kHz
AHV30-30-FF100K 0~30kV 0~30 mA 900W Fijo 100 kHz
AHV30-30-AF5-10K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 5 kHz a 10 kHz
AHV30-30-AF10-20K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 10 kHz a 20 kHz
AHV30-30-AF10-30K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 10 kHz a 30 kHz
AHV30-30-AF20-30K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 20 kHz a 30 kHz
AHV30-30-AF20-40K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 20 kHz a 40 kHz
AHV30-30-AF20-50K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 20 kHz a 50 kHz
AHV30-30-AF30-40K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 30 kHz a 40 kHz
AHV30-30-AF30-50K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 30 kHz a 50 kHz
AHV30-30-AF50-100K 0~30kV 0~30 mA 900W Ajustable de 50 kHz a 100 kHz
Dimensiones 439An*133,3Al*363D mm
Peso Aproximadamente 22 kg
Entrada CA 1φ3W, 220V±10% 50/60Hz

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