AHV 30kV 30mA Fonte de alimentação de impulso de alta tensão e alta frequência para plasma

  • Fonte de alimentação pulsada de alta tensão e alta frequência da série AHV 30kV 30mA 900W
  • Ecrã LED de 4 dígitos para tensão, corrente e frequência
  • Saída nominal 0 a 30kV (60kVpp) 30mA 900W
  • Frequência fixa 5kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz
  • Frequência ajustável 5kHz a 100kHz
  • Outras gamas de tensão, frequência e potência a pedido

Detalhes

As fontes de alimentação de impulsos de alta tensão e alta frequência para aplicações de plasma são dispositivos especiais concebidos para fornecer impulsos precisos e ajustáveis de subida rápida para conduzir a descarga por barreira dieléctrica (DBD), a descarga corona e o tratamento de superfícies. Estes dispositivos fornecem normalmente uma gama de tensão de 10kV a 30kV ou mais e uma gama de frequência (taxa de repetição) de 1kHz a 20kHz ou mais.

A série AHV 30kV 30mA 900W de 30kV (60kV pico a pico) de alta tensão e alta frequência fornece impulsos de alta tensão a uma frequência fixa ou a uma gama de frequência ajustável selecionável de 1kHz a 100kHz.

Opções de gama de frequência fixa: 5kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opções de gama de frequência ajustável: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz

 A tecnologia de plasma é amplamente aplicada nas indústrias e na investigação devido às suas propriedades únicas de gás ionizado.

  • Indústria de semicondutores: A deposição de vapor químico melhorada por plasma (PECVD) e a gravação são essenciais para o fabrico de chips de computador, permitindo uma modificação precisa do material a nível microscópico.
  • Tratamento de superfície e revestimentoUtilizado na gravação e deposição por plasma durante o fabrico de semicondutores, jactos de plasma para corte e união de metais, tratamento de superfícies como revestimento por plasma, nitretação por plasma, polimerização por plasma.
  • Aplicações médicasEsterilização: utilizada para esterilizar instrumentos médicos e eliminar os riscos biológicos
  • Corte e iluminação industrial: Os maçaricos de plasma são utilizados para o corte de metais de alta precisão. O plasma é também a fonte de luz das lâmpadas fluorescentes, dos sinais de néon e dos televisores de plasma.
  • Gestão ambiental e de resíduos: As tochas de plasma de alta temperatura são utilizadas para gaseificar resíduos perigosos, decompondo materiais tóxicos ao nível atómico. Também são utilizadas para tratar o ar e a água contaminados.

AHV 30kV 30mA Fonte de alimentação de impulso de alta tensão e alta frequência para plasma

Modelo (30 kV) Gama de saída Modelo (30 kV) Gama de saída
Tensão de pico Corrente máxima Potência Frequência Tensão de pico Corrente máxima Potência Frequência
AHV30-30-FF5K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 5kHz AHV30-30-AF5-10K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável 5kHz a 10kHz
AHV30-30-FF10K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 10kHz AHV30-30-AF10-20K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 10kHz a 20kHz
AHV30-30-FF20K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 20kHz AHV30-30-AF10-30K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 10kHz a 30kHz
AHV30-30-FF30K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 30kHz AHV30-30-AF20-30K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 20kHz a 30kHz
AHV30-30-FF40K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 40kHz AHV30-30-AF20-40K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 20kHz a 40kHz
AHV30-30-FF50K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 50kHz AHV30-30-AF20-50K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 20kHz a 50kHz
AHV30-30-FF100K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 100kHz AHV30-30-AF30-40K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável 30kHz a 40kHz
AHV30-30-AF30-50K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável 30kHz a 50kHz
AHV30-30-AF50-100K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 50kHz a 100kHz
Dimensões 439W*133H*563D mm
Peso Aproximadamente 22 kg
Entrada AC 1φ3W, 220V±10% 50/60Hz

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