AHV 30kV 67mA Plasma Fuente de alimentación de alta tensión para procesamiento industrial

  • AHV 30kV 67mA Fuente de alimentación de plasma de alta tensión serie 2000W
  • Pantalla LED de 4 dígitos para tensión, corriente y frecuencia
  • Salida nominal 0 a 30kV (60kVpp) 67mA 2000W
  • Frecuencia fija 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz
  • Frecuencia ajustable de 5 kHz a 100 kHz
  • Otras tensiones, frecuencias y potencias a petición

Detalles

El procesamiento industrial por plasma de 30kV utiliza energía de alto voltaje y alta frecuencia (normalmente 10-30 kHz) para el tratamiento avanzado de materiales, incluyendo la modificación, limpieza y recubrimiento de superficies. Estos sistemas de plasma, incluidos los generadores pulsados y las configuraciones de descarga de barrera dieléctrica (DBD), se utilizan en entornos atmosféricos y de vacío para la funcionalización de polímeros, la producción de ozono y la fabricación avanzada.

La fuente de alimentación de plasma de alta tensión de la serie AHV 30kV 67mA 2000W es ideal para el procesamiento industrial, ya que proporciona pulsos de alta potencia y alta tensión de 30kV (60kV pico a pico) a una frecuencia fija o a un rango de frecuencia ajustable seleccionable de 1kHz a 100kHz.

Opciones de gama de frecuencias fijas: 5kHz, 8kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opciones de rango de frecuencia ajustable: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz 

Aplicaciones clave del plasma industrial de 30kV (60kVpp):

  • Tecnología de plasma frío: utilizado para la esterilización, descontaminación y activación de superficies.
  • Modificación de superficies industriales: Los pulsos de plasma de alta tensión de 30 kV se utilizan para aumentar la energía superficial de los materiales, mejorando la adherencia para la impresión, la pintura y la unión.
  • Recubrimiento de plasma: Los sistemas de plasma al vacío de 30 kV se utilizan para la deposición de alta precisión de películas finas y revestimientos funcionales mediante descarga de barrera dieléctrica (DBD).
  • Control medioambiental: Los impulsos de 30 kV impulsan los sistemas de descarga de barrera dieléctrica para descomponer los compuestos orgánicos volátiles (COV) y tratar los gases de escape industriales.
  • Síntesis de materiales: Los sistemas de alta tensión pulsada de 30kV se utilizan a menudo en la síntesis de nanopartículas y el procesamiento de materiales.

AHV 30kV 67mA Plasma Fuente de alimentación de CA de alto voltaje para procesamiento industrial

Modelo (30kV) Salida Gama
Pico de tensión Corriente máxima Potencia Frecuencia
AHV30-67-FF5K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 5kHz
AHV30-67-FF8K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 8 kHz
AHV30-67-FF10K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 10 kHz
AHV30-67-FF20K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 20 kHz
AHV30-67-FF30K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 30 kHz
AHV30-67-FF40K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 40 kHz
AHV30-67-FF50K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 50 kHz
AHV30-67-FF100K 0~30kV 0~67 mA 2000W Fijo 100 kHz
AHV30-67-AF5-10K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 5 kHz a 10 kHz
AHV30-67-AF10-20K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 10 kHz a 20 kHz
AHV30-67-AF10-30K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 10 kHz a 30 kHz
AHV30-67-AF20-30K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 20 kHz a 30 kHz
AHV30-67-AF20-40K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 20 kHz a 40 kHz
AHV30-67-AF20-50K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 20 kHz a 50 kHz
AHV30-67-AF30-40K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 30 kHz a 40 kHz
AHV30-67-AF30-50K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 30 kHz a 50 kHz
AHV30-67-AF50-100K 0~30kV 0~67 mA 2000W Ajustable de 50 kHz a 100 kHz
Dimensiones Módulo de control: 439W*133H*436D mm; Módulo de salida HV: 439W*133H*436D mm
Peso Módulo de control: aprox. 12 kg; modelo de salida de alta tensión: aprox. 24 kg
Entrada CA 1φ3W, 220V±10% 50/60Hz

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