Промышленная плазменная обработка 30 кВ использует высоковольтную и высокочастотную энергию (обычно 10-30 кГц) для усовершенствованной обработки материалов, включая модификацию поверхности, очистку и нанесение покрытий. Эти плазменные системы, включая импульсные генераторы и установки диэлектрического барьерного разряда (DBD), используются в атмосферных и вакуумных условиях для функционализации полимеров, производства озона и передового производства.
Плазменный высоковольтный источник питания серии AHV 30kV 67mA 2000W идеально подходит для промышленной обработки, обеспечивая импульсы высокой мощности и высокого напряжения 30kV (60kV от пика до пика) при фиксированной частоте или регулируемом диапазоне частот, выбираемом от 1kHz до 100kHz.
Варианты фиксированного диапазона частот: 5 кГц, 8 кГц, 10 кГц, 20 кГц, 30 кГц, 40 кГц, 50 кГц, 100 кГц
Варианты регулируемого диапазона частот: 5кГц ~ 10кГц; 10кГц ~ 20кГц; 10кГц ~ 30кГц; 20кГц ~ 30кГц; 20кГц ~ 40кГц; 20кГц ~ 50кГц; 30кГц ~ 40кГц; 30кГц ~ 50кГц; 50кГц ~ 100кГц
Основные области применения промышленной плазмы 30 кВ (60 кВпп):
- Технология холодной плазмы: используется для стерилизации, дезинфекции и активации поверхностей.
- Промышленная модификация поверхности: Высоковольтные импульсы плазмы 30 кВ используются для увеличения поверхностной энергии материалов, повышая адгезию при печати, покраске и склеивании.
- Плазменное покрытие: Вакуумные плазменные системы 30 кВ используются для высокоточного осаждения тонких пленок и функциональных покрытий с помощью диэлектрического барьерного разряда (DBD).
- Экологический контроль: Импульсы напряжением 30 кВ приводят в действие системы диэлектрического барьерного разряда для разложения летучих органических соединений (ЛОС) и очистки промышленных выхлопов.
- Синтез материалов: Импульсные высоковольтные системы 30 кВ часто используются при синтезе наночастиц и обработке материалов.









