Категории

AHV 30 кВ 67 мА Плазменный высоковольтный источник питания для промышленной обработки

  • Высоковольтный источник питания для плазмы серии AHV 30kV 67mA 2000W
  • Светодиодный дисплей с 4 цифрами для отображения напряжения, тока и частоты
  • Номинальная мощность от 0 до 30 кВ (60 кВпп) 67 мА 2000 Вт
  • Фиксированная частота 5 кГц, 8 кГц, 10 кГц, 20 кГц, 30 кГц, 40 кГц, 50 кГц, 100 кГц
  • Регулируемая частота от 5 кГц до 100 кГц
  • Другие напряжения, частоты и диапазоны мощности по запросу

Подробности

Промышленная плазменная обработка 30 кВ использует высоковольтную и высокочастотную энергию (обычно 10-30 кГц) для усовершенствованной обработки материалов, включая модификацию поверхности, очистку и нанесение покрытий. Эти плазменные системы, включая импульсные генераторы и установки диэлектрического барьерного разряда (DBD), используются в атмосферных и вакуумных условиях для функционализации полимеров, производства озона и передового производства.

Плазменный высоковольтный источник питания серии AHV 30kV 67mA 2000W идеально подходит для промышленной обработки, обеспечивая импульсы высокой мощности и высокого напряжения 30kV (60kV от пика до пика) при фиксированной частоте или регулируемом диапазоне частот, выбираемом от 1kHz до 100kHz.

Варианты фиксированного диапазона частот: 5 кГц, 8 кГц, 10 кГц, 20 кГц, 30 кГц, 40 кГц, 50 кГц, 100 кГц

Варианты регулируемого диапазона частот: 5кГц ~ 10кГц; 10кГц ~ 20кГц; 10кГц ~ 30кГц; 20кГц ~ 30кГц; 20кГц ~ 40кГц; 20кГц ~ 50кГц; 30кГц ~ 40кГц; 30кГц ~ 50кГц; 50кГц ~ 100кГц 

Основные области применения промышленной плазмы 30 кВ (60 кВпп):

  • Технология холодной плазмы: используется для стерилизации, дезинфекции и активации поверхностей.
  • Промышленная модификация поверхности: Высоковольтные импульсы плазмы 30 кВ используются для увеличения поверхностной энергии материалов, повышая адгезию при печати, покраске и склеивании.
  • Плазменное покрытие: Вакуумные плазменные системы 30 кВ используются для высокоточного осаждения тонких пленок и функциональных покрытий с помощью диэлектрического барьерного разряда (DBD).
  • Экологический контроль: Импульсы напряжением 30 кВ приводят в действие системы диэлектрического барьерного разряда для разложения летучих органических соединений (ЛОС) и очистки промышленных выхлопов.
  • Синтез материалов: Импульсные высоковольтные системы 30 кВ часто используются при синтезе наночастиц и обработке материалов.

AHV 30 кВ 67 мА Плазменный высоковольтный источник питания переменного тока для промышленной обработки

Модель (30 кВ) Выход Диапазон
Пиковое напряжение Максимальный ток Мощность Частота
AHV30-67-FF5K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 5 кГц
AHV30-67-FF8K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 8 кГц
AHV30-67-FF10K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 10 кГц
AHV30-67-FF20K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 20 кГц
AHV30-67-FF30K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 30 кГц
AHV30-67-FF40K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 40 кГц
AHV30-67-FF50K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированная частота 50 кГц
AHV30-67-FF100K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Фиксированный 100 кГц
AHV30-67-AF5-10K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 5 кГц до 10 кГц
AHV30-67-AF10-20K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 10 кГц до 20 кГц
AHV30-67-AF10-30K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 10 кГц до 30 кГц
AHV30-67-AF20-30K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 20 кГц до 30 кГц
AHV30-67-AF20-40K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 20 кГц до 40 кГц
AHV30-67-AF20-50K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 20 кГц до 50 кГц
AHV30-67-AF30-40K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 30 кГц до 40 кГц
AHV30-67-AF30-50K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота от 30 кГц до 50 кГц
AHV30-67-AF50-100K 0~30 кВ 0~67 мА 2000W Регулируемая частота 50 кГц - 100 кГц
Размеры Модуль управления: 439W*133H*436D мм; Модуль выхода HV: 439W*133H*436D мм
Вес Модуль управления: около 12 кг; модель с выходом HV: около 24 кг
Вход переменного тока 1φ3 Вт, 220 В±10% 50/60 Гц

ОТПРАВИТЬ СООБЩЕНИЕ

Оставьте сообщение, и мы свяжемся с вами по электронной почте в ближайшее время.

    ru_RUРусский