AHV 30kV 30mA Fonte de alimentação de impulso de alta tensão e alta frequência para plasma

  • Fonte de alimentação pulsada de alta tensão e alta frequência da série AHV 30kV 30mA 900W
  • Ecrã LED de 4 dígitos para tensão, corrente e frequência
  • Saída nominal 0 a 30kV (60kVpp) 30mA 900W
  • Frequência fixa 5kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz
  • Frequência ajustável 5kHz a 100kHz
  • Outras gamas de tensão, frequência e potência a pedido

Detalhes

As fontes de alimentação de impulsos de alta tensão e alta frequência para aplicações de plasma são dispositivos especiais concebidos para fornecer impulsos precisos e ajustáveis de subida rápida para conduzir a descarga por barreira dieléctrica (DBD), a descarga corona e o tratamento de superfícies. Estes dispositivos fornecem normalmente uma gama de tensão de 10kV a 30kV ou mais e uma gama de frequência (taxa de repetição) de 1kHz a 20kHz ou mais.

A série AHV 30kV 30mA 900W de 30kV (60kV pico a pico) de alta tensão e alta frequência fornece impulsos de alta tensão a uma frequência fixa ou a uma gama de frequência ajustável selecionável de 1kHz a 100kHz.

Opções de gama de frequência fixa: 5kHz, 10kHz, 20kHz, 30kHz, 40kHz, 50kHz, 100kHz

Opções de gama de frequência ajustável: 5kHz ~ 10kHz; 10kHz ~ 20kHz; 10kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 30kHz; 20kHz ~ 40kHz; 20kHz ~ 50kHz; 30kHz ~ 40kHz; 30kHz ~ 50kHz; 50kHz ~ 100kHz 

A tecnologia de plasma é amplamente aplicada nas indústrias e na investigação devido às suas propriedades únicas de gás ionizado.

  • Indústria de semicondutores: A deposição de vapor químico melhorada por plasma (PECVD) e a gravação são essenciais para o fabrico de chips de computador, permitindo uma modificação precisa do material a nível microscópico.
  • Tratamento de superfície e revestimentoUtilizado na gravação e deposição por plasma durante o fabrico de semicondutores, jactos de plasma para corte e união de metais, tratamento de superfícies como revestimento por plasma, nitretação por plasma, polimerização por plasma.
  • Aplicações médicasEsterilização: utilizada para esterilizar instrumentos médicos e eliminar os riscos biológicos
  • Corte e iluminação industrial: Os maçaricos de plasma são utilizados para o corte de metais de alta precisão. O plasma é também a fonte de luz das lâmpadas fluorescentes, dos sinais de néon e dos televisores de plasma.
  • Gestão ambiental e de resíduos: As tochas de plasma de alta temperatura são utilizadas para gaseificar resíduos perigosos, decompondo materiais tóxicos ao nível atómico. Também são utilizadas para tratar o ar e a água contaminados.

AHV 30kV 30mA Fonte de alimentação de impulso de alta tensão e alta frequência para plasma

Modelo (30kV) Saída Gama
Tensão de pico Corrente máxima Potência Frequência
AHV30-30-FF5K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 5kHz
AHV30-30-FF10K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 10kHz
AHV30-30-FF20K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 20kHz
AHV30-30-FF30K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 30kHz
AHV30-30-FF40K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 40kHz
AHV30-30-FF50K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 50kHz
AHV30-30-FF100K 0~30kV 0~30mA 900W Fixo 100kHz
AHV30-30-AF5-10K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável 5kHz a 10kHz
AHV30-30-AF10-20K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 10kHz a 20kHz
AHV30-30-AF10-30K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 10kHz a 30kHz
AHV30-30-AF20-30K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 20kHz a 30kHz
AHV30-30-AF20-40K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 20kHz a 40kHz
AHV30-30-AF20-50K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 20kHz a 50kHz
AHV30-30-AF30-40K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável 30kHz a 40kHz
AHV30-30-AF30-50K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável 30kHz a 50kHz
AHV30-30-AF50-100K 0~30kV 0~30mA 900W Ajustável de 50kHz a 100kHz
Dimensões 439W*133.3H*363D mm
Peso Aproximadamente 22 kg
Entrada AC 1φ3W, 220V±10% 50/60Hz

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